步进投影无掩模数字光刻机

技术特征

◆采用DMD作为数字化可变掩模，实现投影式无掩模数字化光刻；

◆采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应，实现平行均匀照明；

◆采用反射式投影技术，实现DMD对图像灰度、曝光剂量的连续可控；

◆采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场曝光；

◆采用计算机分级控制和光栅精密测量技术，实现工件台精密定位。

主要技术指标

● 曝光分辩力：1μm；

● 最大曝光基片：100 mm×100mm；

● 照明均匀性：±1%；

● X、Y、Z、θ四自由度电动位移台；

● X、Y运动定位精度：0.65μm；

● Z向运动精度：1μm；

● 转动台行程：±6°以上。

单位名称：中国科学院光电技术研究所

单位地址：四川成都双流西航港光电大道1号

单位网址:www.ioe.ac.cn

联系人： 胡松、赵立新　　　　 电话/传真：028-85100564